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半導體晶硅行業(yè)用的氮化硅原材料在加工的過程中會排放出含有氮化物、氟等的污染物，因有著耐火、耐腐蝕等的特性現(xiàn)被廣泛應用于半導體行業(yè)中，而隨著電子半導體行業(yè)的不斷發(fā)展，晶硅氮化硅工業(yè)廢水的廢水量也越來越多，對于晶硅脫氮除氟廢水處理應該怎么處理呢?
半導體晶硅工業(yè)廢水中的氮以及氟化合物在經(jīng)過處理之后是可以進行回收重新利用的，電子產品加工的過程中主要會產生兩類的工業(yè)廢水，一類的酸性，主要來源于廢酸液和廢堿液，其含氟離子和硝態(tài)氮較高，另一類廢水pH值接近中性，其含氟離子量較低但水量大。
宏森環(huán)保主要采用晶硅廢水超濾處理+反滲透系統(tǒng)處理，然后將分離開來的廢水再分別進行處理，最后達到回收部分可利用資源，降低處理成本。
將晶硅廢水運送至半導體晶硅廢水處理設備進行超濾+反滲透系統(tǒng)處理可以分離出含氟含硝態(tài)氮濃水和清水，將分離出來的含氟含硝廢水和強酸性高氟廢水進行混合，廢水在混合之后進入一級沉淀除氟池，往廢水處理設備中加入化學藥劑，反應生成后的氟化鈣沉淀作為泥渣進行去除，接著將廢水中的上清液導入反硝化池。
在反硝化池中是可以將細菌進行生化脫氮，然后將處理后的廢水導入二級沉淀除氟池，接著二級的沉淀除氟池可以使得氟離子形成氟化鈣沉淀而除去，最后晶硅廢水達到了脫氮除氟的目的，廢水達標后即可排放。
